Silica-SMAP Silica-SMAP

Ar-Clのクロスカップリング反応^{1）, 2）}

Ar-Clを用いた鈴木-宮浦クロスカップリング反応において良好な収率で反応が進みます。

立体障害が大きいAr-Clのホウ素化^{1）, 2）}

反応が進みにくい立体障害が大きな基質でも良好な収率でホウ素化が可能です。

Buchwald配位子とその性能比較^1）

基質によってはXPhosやSPhosより高い活性を示します。

配向基のオルト位選択的C-Hホウ素化反応^{2）, 4）}

Rh触媒条件下ではN官能性基質のオルト位選択的ホウ素化が可能です。^{2）, 4）}

反応後のPd、Rhの濃度^{1）, 5）}

Pd, Rhの反応系で、ICP-AES分析で検出限界以下の実例があります。

参考文献

1. Kawamorita, S., Ohmiya, H., Iwai, T. and Sawamura, M. : Angew. Chem. Int. Ed., 50, 8363 (2011).
2. 澤村 正也 : 和光純薬時報, 82, 1, (2014).
3. Kawamorita, S., Ohmiya, H.,Hara, K., Fukuoka, A. and Sawamura, M. : J. Am. Chem. Soc., 14, 5058 (2009).
4. Kawamorita, S., Miyazaki, T., Ohmiya, H., Iwai, T. and Sawamura, M. : J. Am. Chem. Soc., 133, 19310 (2011).
5. Hamasaka, G., Ochida, K., Hara, K., and Sawamura, M. : Angew. Chem. Int. Ed., 46, 5381 (2007).