配位子
金属触媒には安定性や活性を制御するために「配位子」が用いられます。この選択は合成反応の成否に関わることから、多くの配位子が開発されてきました。その電子密度や立体的なかさ高さの違いによって、触媒回転頻度(TOF)や反応選択性が変わってきます。 ここでは、クロスカップリングや触媒的C-H活性化反応にご使用いただけるホスフィン配位子、NHC配位子、さらにキラル化合物の合成に用いる不斉配位子などをご紹介しています。
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金属触媒には安定性や活性を制御するために「配位子」が用いられます。この選択は合成反応の成否に関わることから、多くの配位子が開発されてきました。その電子密度や立体的なかさ高さの違いによって、触媒回転頻度(TOF)や反応選択性が変わってきます。 ここでは、クロスカップリングや触媒的C-H活性化反応にご使用いただけるホスフィン配位子、NHC配位子、さらにキラル化合物の合成に用いる不斉配位子などをご紹介しています。
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