10-CDPA 10-CDPA

製造元 :: (株)同仁化学研究所

保存条件 :: 室温

CAS RN^® :: 4494-24-0

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比較	製品コード	容量	価格	在庫 / 納期目安
	販売元 342-91561 製造元 C490 JAN 4987481635340	10mg	希望納入価格 17,900 円	照会
	販売元 348-91563 製造元 C490 JAN 4987481635357	100mg	希望納入価格 48,000 円	西日本 : - 東日本 : 1

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概要	金属酸化物表面処理用ホスホン酸誘導体ホスホン酸誘導体は、Al2O3、TiO2、ZrO2、シリコン酸化膜SiO2、マイカ、ステンレス(SS316L)、ニチノール、ヒドロキシアパタイト、ZnO、ITO 等の種々金属酸化物の表面処理･改質剤として、近年、注目されています。ホスホン酸誘導体は、シランカップリング剤に比べ、いくつかの利点を有していることから、有機デバイスなど様々な用途で利用され始めています。【特長】 ●シランカップリング剤より試薬が安定トリクロロシランやトリメトキシシランのようなシランカップリング剤は活性が高く、水分があると容易に加水分解します。分解すると試薬自身が重合するため、溶液で保存しておくと分子量の増大により次第に白濁します。これに対し、スルホン酸誘導体は非常に安定な化合物であり、試薬が重合することはありません。 ●シランカップリング剤より高密度なSAMを形成ホスホン産SAMの特長の一つは形成されるSAMがシランカップリング剤に比べ高密度であることです。SilvermanらはTiO2上に形成されたSAMをQCM(Quarts Crystal Microbalance)で評価し、ホスホン酸の方が約4倍高密度であると報告しています。また、KlaukらはAl2O3上でホスホン酸がトリクロロシラン誘導体よりも2.5倍高密度であることをXPSによる表面解析で明らかにしています。 ●シランカップリング剤よりも形成されたSAMが安定更に、ホスホン酸SAMはシランカップリング剤に比べ、形成されたSAMが安定であるという特長を持っています。SilvermanらはTiO2上に形成されたSAMの末端に蛍光基を導入し、蛍光基の基板からの脱離を評価することでSAMの安定性を議論しています。11-HUPA(メーカーコード：H399)のSAMはpH7.5の水中に室温、7日浸漬しても全く蛍光基が離脱しないのに対し、APTS（アミノプロピルトリエトキシシラン）のSAMでは経時的な蛍光基の離脱が観測されています。ホスホン酸SAMの安定性は標識する基盤によって変わります。TiO2やAl2O3上では比較的安定性の高いSAMが形成されますが、シリコン膜（SiO2）上のホスホン酸SAMは加水分解されやすいことが知られています。Thissenらはこの安定性の低さを解決するべく、SiO2上にAl2O3層を形成し、その上にホスホン酸SAMを形成して安定な皮膜を形成させることに成功しています。 (Wako Organic Square No.50, p19) (Wako Organic Square No.52, p16 (JUNE,2015))

概要

金属酸化物表面処理用ホスホン酸誘導体
ホスホン酸誘導体は、Al2O3、TiO2、ZrO2、シリコン酸化膜SiO2、マイカ、ステンレス(SS316L)、ニチノール、ヒドロキシアパタイト、ZnO、ITO 等の種々金属酸化物の表面処理･改質剤として、近年、注目されています。ホスホン酸誘導体は、シランカップリング剤に比べ、いくつかの利点を有していることから、有機デバイスなど様々な用途で利用され始めています。
【特長】
●シランカップリング剤より試薬が安定
トリクロロシランやトリメトキシシランのようなシランカップリング剤は活性が高く、水分があると容易に加水分解します。分解すると試薬自身が重合するため、溶液で保存しておくと分子量の増大により次第に白濁します。これに対し、スルホン酸誘導体は非常に安定な化合物であり、試薬が重合することはありません。
●シランカップリング剤より高密度なSAMを形成
ホスホン産SAMの特長の一つは形成されるSAMがシランカップリング剤に比べ高密度であることです。SilvermanらはTiO2上に形成されたSAMをQCM(Quarts Crystal Microbalance)で評価し、ホスホン酸の方が約4倍高密度であると報告しています。また、KlaukらはAl2O3上でホスホン酸がトリクロロシラン誘導体よりも2.5倍高密度であることをXPSによる表面解析で明らかにしています。
●シランカップリング剤よりも形成されたSAMが安定
更に、ホスホン酸SAMはシランカップリング剤に比べ、形成されたSAMが安定であるという特長を持っています。SilvermanらはTiO2上に形成されたSAMの末端に蛍光基を導入し、蛍光基の基板からの脱離を評価することでSAMの安定性を議論しています。11-HUPA(メーカーコード：H399)のSAMはpH7.5の水中に室温、7日浸漬しても全く蛍光基が離脱しないのに対し、APTS（アミノプロピルトリエトキシシラン）のSAMでは経時的な蛍光基の離脱が観測されています。ホスホン酸SAMの安定性は標識する基盤によって変わります。TiO2やAl2O3上では比較的安定性の高いSAMが形成されますが、シリコン膜（SiO2）上のホスホン酸SAMは加水分解されやすいことが知られています。Thissenらはこの安定性の低さを解決するべく、SiO2上にAl2O3層を形成し、その上にホスホン酸SAMを形成して安定な皮膜を形成させることに成功しています。
(Wako Organic Square No.50, p19)
(Wako Organic Square No.52, p16 (JUNE,2015))

物性情報

「物性情報」は参考情報でございます。規格値を除き、この製品の性能を保証するものではございません。
本製品の品質及び性能については、本品の製品規格書をご確認ください。
なお目的のご研究に対しましては、予備検討を行う事をお勧めします。

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【医薬品原料】
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