MOCVD、CVD、ALD材料

当社ではStrem Chemicals社のMOCVD、CVD、およびALD用プリカーサーを販売しております。有機金属気相成長法はMOCVD(Metal Organic Chemical Vapour Deposition)と呼ばれており、有機金属とガスを用いた結晶成長方法です。トリメチルインジウム、トリメチルガリウム、トリメチルアルミニウム等の有機金属とアルシン・ホスフィン・アンモニアなどの原料ガスを送って、基盤の上に正確に制御された厚さの層を構築します。また、化学気相成長法はCVD(Chemical Vapor Deposition)と呼ばれ、薄膜構成原子を含む化合物ガスを送り、熱や光、プラズマなどの外部エネルギーを用いて基盤の表面で化学反応を起こして層を構築します。原子層堆積法はALD(Atomic Layer Deposition)と呼ばれ、2種類の前駆体を交互に導入しながら層を構築していく技術です。飽和状態を活用して制御する点が特長です。